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<<   作成日時 : 2014/12/15 06:03   >>

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この雑誌の特集のところを読んだ。

以下まとめ。

低流量酸素吸入デバイスと高流量酸素デバイスの部分


低流量システム
患者の一回換気量に満たない酸素を流すので、不足分は周囲の空気を吸入することで補っている。
患者の呼吸パターンによって、吸入酸素濃度は変化する。(早く吸い込めば、室内の空気をよけいに吸うことになるので吸入酸素濃度は下がる。)

経鼻カニューレ
投与箇所:鼻腔
流量範囲:1〜5L/分
注意
・口呼吸患者には適していない
・鼻腔粘膜を刺激する

リザーバー付き経鼻カニューレ
投与箇所:鼻腔
流量範囲:1〜7L/分

酸素マスク
投与箇所:経鼻+口腔
流量範囲:5〜8L/分
注意
・酸素流量5L/分以上が必要(マスク内に貯まった呼気ガスを再吸入しないため)
・低濃度でよい患者には適さない
・口呼吸患者でやむおえず5L/分以下で使用する場合は、PaCO2の上昇に注意

リザーバー付き酸素マスク
投与箇所:鼻腔+口腔
流量範囲:6L/分〜
注意
・酸素流量は6L/分が必要
・加湿が不十分となるので、長期間の使用には適さない

酸素チューブ+人口鼻
投与箇所:気管切開・気管チューブ
流量範囲:1〜10L/分


高流量システム
マスクから供給されるトータル流量が、患者の一回換気量よりも多い
患者の呼吸パターンに左右されず酸素吸入濃度を一定に保つことができる
システム構成に希釈器や加湿加温器が増えるため、準備が煩雑になり、コストが増加する

ベンチュリーマスク
投与箇所:鼻腔+口腔
流量範囲30L/分以上
吸入酸素濃度:24〜50%
注意
・加湿能力が低いため、口鼻腔の乾燥に注意
・40%以上のFiO2が必要な場合は、ネブライザー付き酸素吸入装置を考慮

ネブライザー付き酸素吸入装置
インスピロンネブライザーなど
投与箇所:鼻腔+口腔または気管切開チューブ
流量範囲:30L/分以上
吸入酸素濃度:35〜50%

ハイホーネブライザー
投与箇所:鼻腔+口腔または気管切開チューブ
流量範囲:35L/分以上
吸入酸素濃度:40〜98%

ネーザルハイフロー
投与箇所:鼻腔
流量範囲:30L/分以上
吸入酸素濃度:21〜100%


低流量システムと高流量システムの違いは、吸入酸素濃度(FiO2)の調整精度と加湿能力で、いずれも高流量システムのほうが勝っている。
ただし、高流量システムのほうがFiO2が高いわけではない。

多過ぎる酸素の投与は患者さんに不快感を与え、医療資源の無駄でもあり、何より”毒”(肺障害、吸収性無気肺、痙攣などの原因)になりかねない。



※以上は自分の学習のためのまとめです。正確には上記雑誌をご参照ください。

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